Disques de verre de silice fusionné UV pour optique de précision et systèmes laser

Disques de verre de silice fusionné UV pour optique de précision et systèmes laser

Matériel

• Silice fondue sous UV: verre synthétique composé de dioxyde de silicium (SiO2) de haute pureté, optimisé pour la transmission des rayons ultraviolets (UV).

  • Les notes: inclut JGS1 (transparence UV profonde, 185°2500 nm) et JGS2 (220°2500 nm), équilibrant performance et coût.

  • La pureté: Une faible teneur en impuretés métalliques et en hydroxyle (OH) assurent une absorption minimale dans le spectre UV.

Propriétés clés

1. Transparence UV: Transmission exceptionnelle de l'UV profonde à l'infrarouge proche (NIR), essentielle pour les applications au laser UV.

2. Stabilité thermique: Faible expansion thermique (≈0,55 x 10−6/°C) résiste à la déformation sous l'exposition au laser à haute puissance ou aux changements de température.

3. Résistance chimique: Inerte aux acides, aux solvants et aux plasmas, idéale pour les environnements industriels difficiles.

4. seuil de dégradation du laser: Haute résistance aux dommages induits par le laser, adaptée aux lasers à ondes continues et à impulsions.

5. Qualité de la surface: Polie à λ/10 de planéité avec un minimum de défauts de sous-surface, assurant un contrôle précis du faisceau.

6. Homogénéité: Indice de réfraction uniforme (±5 x 10−6) pour l'optique sans distorsion.

Fonction

• Fenêtres optiques: transmettre la lumière UV tout en protégeant les composants sensibles des facteurs environnementaux.

• Substrats: Servent de base pour les revêtements (anti-réflecteurs, diélectriques) dans les miroirs, les filtres ou les séparateurs de faisceaux.

• Livraison du faisceau: Maintenir l'intégrité du faisceau dans les cavités laser, les collimateurs et les systèmes de mise au point.

• Plaques optiques: fournir des surfaces de référence pour l'interférométrie et l'étalonnage.

Applications

• Systèmes laser: les lasers excimères UV, les systèmes Nd:YAG et les lasers femtosecondes pour le guidage du faisceau et les fenêtres de sortie.

• Lithographie par semi-conducteurs: diffusion de la lumière UV dans les masques de photolithographie et les systèmes pas à pas.

• Optique de précision: miroirs de télescope, diapositives de microscope et composants d'interféromètres.

• Dispositifs médicaux: équipement de stérilisation UV, outils de chirurgie au laser et imagerie diagnostique.

• Aérospatiale et défense: capteurs UV, systèmes LIDAR et applications au laser à haute énergie (HEL).

• La recherche: Spéctroscopie, photonique UV et expériences en optique quantique.