Substrats de disques de verre critiques de planéité optique pour la déposition de films minces

Substrats de disques de verre critiques de planéité optique pour la déposition de films minces

Matériel

• Verre de haute pureté: généralement fabriqué à partir de silice fondue (JGS1/JGS2), de borosilicate ou de quartz, sélectionné pour une expansion thermique ultra-faible et une inerté chimique.

  • Silice fondue: préférée pour son homogénéité exceptionnelle, sa faible teneur en OH et sa résistance aux chocs thermiques.

  • L'acide borosilicate: Alternative rentable avec une stabilité thermique modérée et une bonne polissabilité de surface.

• Qualité de la surface: Conçu avec une planéité de λ/10 à λ/20 pour assurer un écart minimal pour les revêtements de précision.

Propriétés clés

1. Plaineté optique: planéité de surface ≤ λ/10 (à 632,8 nm), essentielle pour le dépôt uniforme de film mince et la minimisation de la distorsion du front d'onde.

2. Stabilité thermique: Faible coefficient de dilatation thermique (par exemple, 0,55 x 10−6/°C pour la silice fondue) empêche la déformation lors de processus à haute température tels que la CVD ou la pulvérisation.

3. Résistance chimique: Inerte aux acides, plasma et solvants, assurant une durabilité dans des environnements de dépôt agressifs.

4. Homogénéité de surface: l'uniformité de l'indice de réfraction (± 5 x 10−6) évite les distorsions optiques dans les films revêtus.

5. Durabilité mécanique: Haute dureté (Mohs 5·7) résiste aux rayures lors de la manipulation et du traitement.

Fonction

• Substrate à film mince: Fournit une base ultraplate et stable pour le dépôt de revêtements (anti-réflecteurs, diélectriques, métalliques).

• Compatibilité des processus: Compatible avec les techniques PVD, CVD, ALD et de pulvérisation, assurant une adhérence et une épaisseur de film uniformes.

• Référence en métrologie: sert de norme d'étalonnage pour les interféromètres et les profilers de surface en raison de sa planéité précise.

Applications

• Fabrication de semi-conducteurs: masques photographiques, miroirs de lithographie EUV et appareils optiques MEMS.

• Industrie de l'optique: filtres revêtus, séparateurs de faisceaux et optique laser nécessitant une précision de niveau nanométrique.

• Recherche et développement: nanotechnologie, photonique et expériences en informatique quantique.

• Aérospatiale et défense: capteurs de précision, optique par satellite et systèmes de guidage laser.

• Dispositifs médicaux: revêtements optiques pour systèmes d'imagerie, endoscopes et équipements de diagnostic.