Composant optique en verre de silice fondu JGS1 JGS2 de haute précision

Composant optique en verre de silice fondu JGS1 JGS2 de haute précision

1. Composition du matériau

• Silice fondue JGS1 : Verre de quartz synthétique avec une transmission ultraviolette (UV) exceptionnelle, en particulier dans la gamme UV profond (185-250 nm), et une faible teneur en hydroxyle (OH).

• Silice fondue JGS2 : Verre de quartz synthétique avec une transmission infrarouge (IR) supérieure et une stabilité thermique plus élevée, avec une teneur en hydroxyle plus élevée pour des performances optiques différentes.

• Fabrication de haute précision : Les composants sont fabriqués à l'aide de techniques avancées de rectification CNC, de tournage au diamant et de polissage pour obtenir une précision de surface submicronique et des tolérances dimensionnelles serrées.

2. Principales propriétés optiques et physiques

• Gamme de transmission spectrale :

  • JGS1 : Excellente transmission de 185 nm (UV profond) à 2,5 µm (proche IR).

  • JGS2 : Excellente transmission de 260 nm (UV) à 3,5 µm (IR moyen).

• Stabilité thermique et mécanique : Coefficient de dilatation thermique extrêmement faible (0,55 x 10⁻⁶/K), résistance élevée aux chocs thermiques et forte durabilité mécanique.

• Qualité de surface : Peut atteindre des finitions de surface de qualité laser (par exemple, planéité λ/10, rayures-trous 10-5) avec un minimum de dommages sous la surface.

• Résistance aux dommages laser : Seuil élevé adapté aux applications laser excimère, UV et haute puissance.

3. Fonctions principales

• Transmission et contrôle précis de la lumière : Manipule la lumière UV à IR avec une distorsion, une diffusion ou une absorption minimales du front d'onde.

• Direction et focalisation du faisceau : Sert de lentilles, de fenêtres, de prismes et de miroirs de haute précision dans des trajets optiques complexes.

• Barrière environnementale et thermique : Protège les optiques internes sensibles dans des environnements volatils tout en maintenant la stabilité sur de larges plages de température.

• Interface critique du système : Garantit des performances optimales dans les applications exigeant un alignement optique précis et une perte de signal minimale.

4. Applications principales

• Photolithographie des semi-conducteurs : Composants critiques dans les steppers et les scanners utilisant des lasers UV profond (DUV).

• Systèmes laser haute puissance : Fenêtres, lentilles et optiques de distribution de faisceau pour les lasers excimère, Nd:YAG et à fibres.

• Astronomie et optique spatiale : Miroirs de télescope, lentilles de satellite et composants de spectromètre nécessitant une stabilité thermique.

• Instruments analytiques et des sciences de la vie : Cellules de spectrophotomètre UV-Vis, fenêtres de détecteur de fluorescence et optiques de microscope.

• Métrologie et inspection industrielles : Optiques de précision pour les interféromètres laser, les systèmes d'inspection de plaquettes et les machines de mesure de coordonnées optiques.